تُعد تقنية الحفر الجاف إحدى العمليات الرئيسية. يُعد غاز الحفر الجاف مادةً أساسيةً في تصنيع أشباه الموصلات، ومصدرًا مهمًا للغاز في الحفر البلازمي. يؤثر أداؤه بشكل مباشر على جودة وأداء المنتج النهائي. تتناول هذه المقالة بشكل رئيسي غازات الحفر الشائعة الاستخدام في عملية الحفر الجاف.
الغازات القائمة على الفلور: مثلرباعي فلوريد الكربون (CF4)سداسي فلورو الإيثان (C2F6)، وثلاثي فلورو الميثان (CHF3)، وبيرفلورو البروبان (C3F8). تُنتج هذه الغازات فلورايدات متطايرة بفعالية عند نقش السيليكون ومركباته، مما يُسهّل إزالة المواد.
الغازات المعتمدة على الكلور: مثل الكلور (Cl2)،ثلاثي كلوريد البورون (BCl3)ورباعي كلوريد السيليكون (SiCl4). يمكن للغازات القائمة على الكلور توفير أيونات الكلوريد أثناء عملية النقش، مما يساعد على تحسين معدل النقش وانتقائيته.
الغازات القائمة على البروم: مثل البروم (Br2) ويوديد البروم (IBr). تتميز الغازات القائمة على البروم بأداء حفر أفضل في بعض عمليات الحفر، خاصةً عند حفر المواد الصلبة مثل كربيد السيليكون.
الغازات النيتروجينية والأكسجينية: مثل ثلاثي فلوريد النيتروجين (NF3) والأكسجين (O2). تُستخدم هذه الغازات عادةً لضبط ظروف التفاعل في عملية النقش، بهدف تحسين انتقائية واتجاهية النقش.
تُحقق هذه الغازات نقشًا دقيقًا لسطح المادة من خلال مزيج من الرش الفيزيائي والتفاعلات الكيميائية أثناء النقش البلازمي. يعتمد اختيار غاز النقش على نوع المادة المراد نقشها، ومتطلبات انتقائية النقش، ومعدل النقش المطلوب.
وقت النشر: ٨ فبراير ٢٠٢٥
